Temperature dependence of FT-IR absorption and Raman scattering of copper phthalocyanine thin layers deposited on silicon substrate

Mirosław Drozdowski

System Informacji Naukowej Politechniki Poznańskiej

PL EN

Strona główna / Publikacje / Temperature dependence of FT-IR absorption and Raman scattering of copper phthalocyanine thin layers deposited on silicon substrate

Zgłoś uwagę

Artykuł

Pobierz BibTeX

Tytuł

Temperature dependence of FT-IR absorption and Raman scattering of copper phthalocyanine thin layers deposited on silicon substrate

Autorzy

Mirosław Drozdowski (WFT) ^{[ 1 ][ P ]}

^{[ 1 ]} Katedra Spektroskopii Optycznej (KS), Wydział Fizyki Technicznej, Politechnika Poznańska | ^{[ P ]} pracownik

Rok publikacji

2006

Opublikowano w

Journal of Molecular Structure

Rocznik: 2006 | Tom: vol. 782

Typ artykułu

artykuł naukowy

Język publikacji

angielski

Strony (od-do)

177 - 182

Impact Factor

1,495

System tworzony przez Politechnikę Poznańską oraz Poznańskie Centrum Superkomputerowo-Sieciowe

Zaloguj się przez eKonto, aby dodać do SIN