Works title
Opracowanie koncepcji maski do wytwarzania struktury elektrod i warstwy czynnej w procesie litografii optycznej
Authors
[ 1 ] Instytut Fizyki, Wydział Inżynierii Materiałowej i Fizyki Technicznej, Politechnika Poznańska | [ P ] employee
Work ID
r2940_2022
Date
20.05.2022
Language
polish
Number of pages or volume of work
3
Type of work
research report
System created by Poznań University of Technology
and Poznan Supercomputing and Networking Center
Log in through eKonto to add to SIS