W zależności od ilości danych do przetworzenia generowanie pliku może się wydłużyć.

Jeśli generowanie trwa zbyt długo można ograniczyć dane np. zmniejszając zakres lat.

Artykuł

Pobierz plik Pobierz BibTeX

Tytuł

Aspect of the elliptical field in the screened flat three-phase high current busduct. Part I - In the internal area of the screen

Autorzy

Wariant tytułu

PL Aspekt pola eliptycznego w ekranowanym płaskim trójfazowym torze wielkoprądowym. Część I - W obszarze wewnętrznym ekranu

Rok publikacji

2012

Opublikowano w

Poznan University of Technology Academic Journals. Electrical Engineering

Rocznik: 2012 | Numer: Issue 69

Typ artykułu

artykuł naukowy

Język publikacji

angielski

Słowa kluczowe
EN
  • elliptical field
  • screened flat three-phase high current busduct
  • high current busduct
  • external proximity effect
  • internal proximity effect
Streszczenie

EN The paper shown the elliptical magnetic field in the high current screened busduct in the case of the both the external and internal proximity effect. For the characterisation of complex vector values for such a field it is proposed that the length of the longer ellipse semi axis as indicated by the end of the vector within one period be used. Part I describes of elliptic field in the internal area of the screen of the flat three-phase high current busduct.

PL W artykule przedstawiono eliptyczne pole magnetyczne występujące w ekranowanym torze wielkoprądowym w przypadku zewnętrznego i wewnętrznego zjawiska zbliżenia. Do charakteryzowania wartości zespolonego wektora takiego pola zaproponowano długość dłuższej półosi elipsy jaką zakreśla koniec tego wektora w ciągu jednego okresu. Część I opisuje pole eliptyczne w obszarze wewnętrznym ekranu trójfazowego płaskiego toru wielkoprądowego.

Strony (od-do)

127 - 134

Pełny tekst artykułu

Pobierz plik

Poziom dostępu do pełnego tekstu

publiczny

Ta strona używa plików Cookies, w celu zapamiętania uwierzytelnionej sesji użytkownika. Aby dowiedzieć się więcej przeczytaj o plikach Cookies i Polityce Prywatności.