W zależności od ilości danych do przetworzenia generowanie pliku może się wydłużyć.

Jeśli generowanie trwa zbyt długo można ograniczyć dane np. zmniejszając zakres lat.

Menu

PL EN
PL EN
Strona główna / Publikacje / Modeling of the Growth Kinetics of Boride Layers during the Diffusion Annealing Process
Zgłoś uwagę

Artykuł

Pobierz BibTeX

Tytuł

Modeling of the Growth Kinetics of Boride Layers during the Diffusion Annealing Process

Autorzy

[ 1 ] Instytut Inżynierii Materiałowej, Wydział Budowy Maszyn i Zarządzania, Politechnika Poznańska | [ P ] pracownik

Dyscyplina naukowa (Ustawa 2.0)

[2.8] Inżynieria materiałowa

Rok publikacji

2018

Opublikowano w

Physics of Metals and Metallography

Rocznik: 2018 | Tom: vol. 119 | Numer: no. 10

Typ artykułu

artykuł naukowy

Język publikacji

angielski

Słowa kluczowe
EN
  • borides
  • growth kinetics
  • diffusion model
  • incubation times
  • annealing diffusion process
Strony (od-do)

927 - 935

DOI

10.1134/S0031918X1810006X

Punktacja Ministerstwa / czasopismo

25

Punktacja Ministerstwa / czasopismo w ewaluacji 2017-2021

25

Impact Factor

1,169

System tworzony przez Politechnikę Poznańską oraz Poznańskie Centrum Superkomputerowo-Sieciowe
Szanowni Państwo, w formularzu zgłoszenia publikacji do SIN, by sprostać wymogom oceny wg kryterium umiędzynarodowienia, pojawiło się nowe pole: "Praca powstała w ramach współpracy międzynarodowej".



5. stycznia 2024 r. ogłoszony został Komunikat Ministra Nauki w sprawie wykazu czasopism naukowych i recenzowanych materiałów z konferencji międzynarodowych. Widoczna w SIN punktacja jest odzwierciedleniem punktacji w PBN (co wymuszone jest procedurami przesyłu danych o publikacjach) – zatem nowe, zmienione Komunikatem, punkty widoczne będą w SIN, gdy tylko zostaną zaktualizowane w PBN. Wg pozyskanych z PBN informacji, Wykaz ma zostać wdrożony w kwietniu.
Ta strona używa plików Cookies, w celu zapamiętania uwierzytelnionej sesji użytkownika. Aby dowiedzieć się więcej przeczytaj o plikach Cookies i Polityce Prywatności.