W zależności od ilości danych do przetworzenia generowanie pliku może się wydłużyć.

Jeśli generowanie trwa zbyt długo można ograniczyć dane np. zmniejszając zakres lat.

Menu

PL EN
PL EN
Strona główna / Publikacje / Modeling of the Growth Kinetics of Boride Layers during the Diffusion Annealing Process
Zgłoś uwagę

Artykuł

Pobierz BibTeX

Tytuł

Modeling of the Growth Kinetics of Boride Layers during the Diffusion Annealing Process

Autorzy

[ 1 ] Instytut Inżynierii Materiałowej, Wydział Budowy Maszyn i Zarządzania, Politechnika Poznańska | [ P ] pracownik

Dyscyplina naukowa (Ustawa 2.0)

[2.8] Inżynieria materiałowa

Rok publikacji

2018

Opublikowano w

Physics of Metals and Metallography

Rocznik: 2018 | Tom: vol. 119 | Numer: no. 10

Typ artykułu

artykuł naukowy

Język publikacji

angielski

Słowa kluczowe
EN
  • borides
  • growth kinetics
  • diffusion model
  • incubation times
  • annealing diffusion process
Strony (od-do)

927 - 935

DOI

10.1134/S0031918X1810006X

Punktacja Ministerstwa / czasopismo

25

Punktacja Ministerstwa / czasopismo w ewaluacji 2017-2021

25

Impact Factor

1,169

System tworzony przez Politechnikę Poznańską oraz Poznańskie Centrum Superkomputerowo-Sieciowe
Szanowni Państwo,

w PBN 26.06.24 zaktualizowana została punktacja czasopism (zgodnie z Wykazem ogłoszonym 5.01.24).
Nadal jednak nie zaktualizowano punktacji konferencji – co więcej, nie jest znany nawet przybliżony termin wdrożenia tej części Wykazu. Widoczna w SIN punktacja jest odzwierciedleniem punktacji w PBN (wymuszają to procedury przesyłu danych o publikacjach), zatem punkty za konferencje widoczne w SIN będą mogły zostać zmienione, dopiero gdy zostaną zaktualizowane w PBN.

Ta strona używa plików Cookies, w celu zapamiętania uwierzytelnionej sesji użytkownika. Aby dowiedzieć się więcej przeczytaj o plikach Cookies i Polityce Prywatności.