W zależności od ilości danych do przetworzenia generowanie pliku może się wydłużyć.

Jeśli generowanie trwa zbyt długo można ograniczyć dane np. zmniejszając zakres lat.

Artykuł

Pobierz BibTeX

Tytuł

Roughness of silicon after chemical and electrochemical etching

Autorzy

[ 1 ] Instytut Inżynierii Materiałowej, Wydział Budowy Maszyn i Zarządzania, Politechnika Poznańska | [ P ] pracownik

Rok publikacji

2004

Opublikowano w

Inżynieria Materiałowa

Rocznik: 2004 | Numer: nr 3

Typ artykułu

artykuł naukowy

Język publikacji

angielski

Strony (od-do)

215 - 217

Zaprezentowany na

Advanced Materials and Technologies, AMT'2004 : XVII Physical Metallurgy and Materials Science Conference, 20-24.06.2004, Łódź, Polska

Ta strona używa plików Cookies, w celu zapamiętania uwierzytelnionej sesji użytkownika. Aby dowiedzieć się więcej przeczytaj o plikach Cookies i Polityce Prywatności.