W zależności od ilości danych do przetworzenia generowanie pliku może się wydłużyć.

Jeśli generowanie trwa zbyt długo można ograniczyć dane np. zmniejszając zakres lat.

Menu

PL EN
PL EN
Strona główna / Publikacje / Roughness of silicon after chemical and electrochemical etching
Zgłoś uwagę

Artykuł

Pobierz BibTeX

Tytuł

Roughness of silicon after chemical and electrochemical etching

Autorzy

[ 1 ] Instytut Inżynierii Materiałowej, Wydział Budowy Maszyn i Zarządzania, Politechnika Poznańska | [ P ] pracownik

Rok publikacji

2004

Opublikowano w

Inżynieria Materiałowa

Rocznik: 2004 | Numer: nr 3

Typ artykułu

artykuł naukowy

Język publikacji

angielski

Strony (od-do)

215 - 217

Zaprezentowany na

Advanced Materials and Technologies, AMT'2004 : XVII Physical Metallurgy and Materials Science Conference, 20-24.06.2004, Łódź, Polska

System tworzony przez Politechnikę Poznańską oraz Poznańskie Centrum Superkomputerowo-Sieciowe
Szanowni Państwo,

w PBN 26.06.24 zaktualizowana została punktacja czasopism (zgodnie z Wykazem ogłoszonym 5.01.24).
Nadal jednak nie zaktualizowano punktacji konferencji – co więcej, nie jest znany nawet przybliżony termin wdrożenia tej części Wykazu. Widoczna w SIN punktacja jest odzwierciedleniem punktacji w PBN (wymuszają to procedury przesyłu danych o publikacjach), zatem punkty za konferencje widoczne w SIN będą mogły zostać zmienione, dopiero gdy zostaną zaktualizowane w PBN.

Ta strona używa plików Cookies, w celu zapamiętania uwierzytelnionej sesji użytkownika. Aby dowiedzieć się więcej przeczytaj o plikach Cookies i Polityce Prywatności.