Processing may take a few seconds...

Report

Works title

Opracowanie koncepcji maski do wytwarzania struktury elektrod i warstwy czynnej w procesie litografii optycznej

Authors

[ 1 ] Instytut Fizyki, Wydział Inżynierii Materiałowej i Fizyki Technicznej, Politechnika Poznańska | [ P ] employee

Work ID

r2940_2022

Date

20.05.2022

Language

polish

Number of pages or volume of work

3

Type of work

research report

This website uses cookies to remember the authenticated session of the user. For more information, read about Cookies and Privacy Policy.